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真空镀膜技术及其特点

时间:2017-05-26 15:15来源:www.denaircompressor.com 编辑:必赢最新网站
真空镀膜技术及其特点 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发(或溅射),使其沉积在被涂覆的物体(称基片、基板或者基体)上的方法称为真空镀膜法。 在材料的表面上,镀上一层薄膜,就能使该种材料具有很多新的物理和化学性能。过去在物体表面上镀膜作为物

 真空镀膜技术及其特点

1、在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发(或溅射),使其沉积在被涂覆的物体(称基片、基板或者基体)上的方法称为真空镀膜法。

在材料的表面上,镀上一层薄膜,就能使该种材料具有很多新的物理和化学性能。过去在物体表面上镀膜作为物体表面改性的一种方法,多采用湿度镀膜法,即电镀法和化学镀法。电镀法中被电解的离子镀到作为电解液另一个电极的基本表面上。故此,这种镀膜的基体应是良导体,而且膜层厚度难于控制;化学镀法是应用化学还原原理,使镀膜材料溶液迅速参加还原反应,沉积在基体上。这两种方法不但膜的附着强度差,膜层厚度不匀,而且还会产生大量的废液而造成公害。因此它们在薄膜制备工艺上受到了很大的限制。

2、真空镀膜法是一种新的镀膜工艺,由于薄膜制备工艺是在真空条件下进行的,故称真空镀膜法。亦称干式镀膜法。它与湿式镀膜法相比较具有以下特点:

●真空下制备薄膜,环境清洁,膜不易受污染,可获得致密性好、纯度高、膜度均匀的涂层。

●膜材和基体材料有广泛的选择性,薄膜厚度可进行控制,可以制备各种不同的功能性薄膜。

●膜与基体附着强度好,膜层牢固。

●不产生废液,避免对环境的污染。

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编辑:德耐尔@必赢最新网站  空压机修订日期:2017-05-26
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